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磁控溅射硅薄膜镀不上

霜雪泪  (举报此信息)
小弟研一 刚开始着手磁控溅射设备,镀硅薄膜。失败率很高,总是镀不上。起初用100W,0.6pa参数溅射。铜箔基底表面有一层泛黄的膜,使用拉曼检测发现不是非晶硅。后来调整参数,用150W,0.6pa参数镀膜,改变了氩气流量,发现只有大于30sccm时才能镀上一层偏黑的膜,拉曼还未测过,性能不稳定。最近换了根氩气的通气管,出现以下问题:1,移动挡板挡住样品台进行预溅射时,硅靶中心出现貌似彩环的痕迹。2 ,移开挡板正式溅射时,中心彩环逐渐消失,整个靶颜色趋于一致。3,靶材部分边缘溅射时在整个辉光中显示出阴影,取下来后靶材边缘有咖啡色烧蚀痕迹 且出现裂缝。4,镀膜后,基底颜色基本没有改变,感觉没镀上或镀得很薄。镀膜时间都是1小时。图示为辉光颜色。感觉靶材周围的辉光是正常的硅的辉光,偏紫色。但是靶材之下的光有些泛红。最近反射功率也不是很稳,勉强能调至最低。
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