求助-原料药API工艺验证批在注册资料中是否能体现返工或重新处理啊
各位做药的大侠们，有个问题想请教下，我们有一个API，做了三批的工艺验证，做完质量都没有问题，但是应制剂的要求，API是需要磨粉的，结果发现在磨完粉之后（刚磨完还是符合质量标准的），先从影响因素（60度高温）试验发现，有关物质中降解杂质明显升高，觉的不对，就赶紧把加速40度10天、25度10天、以及放在室温保存的大量样品都进行了测定，结果发现做出来的产品在室温下放了10天，降解杂质都快接近0.1%了(从0.05%开始增加），我们和未磨粉的同步进行了比较，发现未磨粉的样品稳定性是好的，说明是磨粉出现了问题。现在的问题是，我三批工艺验证的样品几十公斤全部都磨粉了，而且还在室温下放了10天，降解杂质也快接近0.1%, 所以工艺人员将这样品溶解后又精制了一次，将其转为未磨粉的样品，再来研究不同磨粉方式对稳定性的影响，可是精制完 了以后，杂质种类没有变化，但跟第一次刚做出来某些杂质的含量不一样，我这个磨粉之后不稳定，又将产品处理回到未磨粉状态，可以在申报资料中体现吗，还是说我磨粉后稳定性不好，就意味着工艺验证已经失败了，必须得重新做工艺验证啊，
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京公网安备 11010802022153号
正解
返工可以提现出来的，但是数据要充分
不能体现。重新做工艺验证吧。很明显这个是放大跟中式有差别了，差别一定要在申报资料中体现。
个人觉得应该要体现，做工艺验证的目的就是来验证中试放大和小试及小中试的区别，具体体现在设备的区别上，既然都做过p-xrd的比较说明小试的磨粉工艺没问题，但到了放大由于设备的原因而导致原料磨粉后产生降解杂质，这很正常，工艺验证3批不是没有白做，后续工作：1、要鉴定这个降解杂质，若有可能，可以放宽磨粉后原料药的杂质限度，2、对原料磨粉工艺进行研究，找出不同工艺下原料的区别（进行晶型鉴定、有关物质及理化性质）3、对磨粉前后原料进行稳定性研究，采用至少两个检测手段（如p-xrd和 IR）比较前后的差别，祝好。
是磨粉的过程中，见光导致，产物对光照敏感！
谢谢大家的回复，其实我们在做工艺验证之前，做了小中试，KG级别的，那批样品考察过磨粉和未磨粉的区别，是无显著差异的，后来工艺验证样品做完之后，我们就直接将样品磨粉了，发现不稳定后我们在找原因，发现是我们在做小中试的样品的磨粉设备，有一个分离通道，可以将非常细粒径的样品吹走，而在车间工艺验证时却没有分离，当然这些做之前我们也没想到。一开始我们也怀疑过是不是工艺验证的样品不对了，于是就拿小中试的样品留样去车间磨粉，磨粉出来也是不稳定的。所以才怀疑磨粉设备不对
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如果你认为墨粉工艺是工艺验证的一部分，墨粉后产品质量不行，那就说明你工艺不行，工艺验证失败了，需要重新磨粉工艺摸索和重新验证。
如果你认为磨粉工艺不在你原料药工艺内，结晶之后就完成了，那你原料的工艺验证就算成功了，但是也有个问题，你全磨粉了，没有稳定性数据给你支持？那你估计要重新工艺验证重新放不磨粉稳定性了