求助PECVD制备氮化硅表面颗粒问题
您好,请问有没有做氮化硅薄膜方向的?我最近做的氮化硅表面总会有一些颗粒。
1.以前相同的工艺做的薄膜没有问题,该问题最近才出现。
2.薄膜厚度大约300nm,测试电阻没有问题;
3.清理了反应腔体和通气管道但是没有效果.
4.测试颗粒成分为Si和N元素,
是要考虑条件不够优化,还是其它污染问题?请问有没有遇到过相同的问题的?谢谢
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您好,请问有没有做氮化硅薄膜方向的?我最近做的氮化硅表面总会有一些颗粒。
1.以前相同的工艺做的薄膜没有问题,该问题最近才出现。
2.薄膜厚度大约300nm,测试电阻没有问题;
3.清理了反应腔体和通气管道但是没有效果.
4.测试颗粒成分为Si和N元素,
是要考虑条件不够优化,还是其它污染问题?请问有没有遇到过相同的问题的?谢谢
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