用射频磁控溅射在Ag上溅射了50多nm厚的氧化铝,为什么会出现这样的小黑点?求指教 9.jpg 10.jpg 返回小木虫查看更多
建议对这些黑点进行一下EDS和电子衍射分析看看。
我想问的是你的溅射工艺里有没有掺杂一点点氧气,你可以试试
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我想问的是你的溅射工艺里有没有掺杂一点点氧气,你可以试试
我的基底是Ag, 如果通氧的话,Ag基底会被氧化,所以只通入了氩气
嗯,你是射频陶瓷靶氧化铝吧?射频溅射氧化物一般得出的膜中会稍稍有些氧元素缺失:
1. 你如果在玻璃上沉积会比较明显,膜层的透明度不够,也就是亚氧状态的氧化物,我们以前做ITO SnO2 ZnO都有这种情况,比如一般充10%氧气;
2. 还有一种你可以观察靶材的跑道,如果还和本体一样的颜色,那基本没问题,如果跑道颜色已经比本体暗很多,说明靶材缺氧了。
当然具体在照片上,膜上的小黑点是不是缺氧的AlOx,还得进一步确认
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