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磁控检测氧化铝出现黑点

作者 benbenyou
来源: 小木虫 200 4 举报帖子
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用射频磁控溅射在Ag上溅射了50多nm厚的氧化铝,为什么会出现这样的小黑点?求指教

磁控检测氧化铝出现黑点
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  • 精华评论
  • peterflyer

    建议对这些黑点进行一下EDS和电子衍射分析看看。

  • 野人禾禾

    我想问的是你的溅射工艺里有没有掺杂一点点氧气,你可以试试

  • benbenyou

    引用回帖:
    3楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2017-11-16 17:57:11
    我想问的是你的溅射工艺里有没有掺杂一点点氧气,你可以试试

    我的基底是Ag, 如果通氧的话,Ag基底会被氧化,所以只通入了氩气

  • 野人禾禾

    引用回帖:
    4楼: Originally posted by benbenyou at 2017-11-17 09:27:13
    我的基底是Ag, 如果通氧的话,Ag基底会被氧化,所以只通入了氩气...

    嗯,你是射频陶瓷靶氧化铝吧?射频溅射氧化物一般得出的膜中会稍稍有些氧元素缺失:
    1. 你如果在玻璃上沉积会比较明显,膜层的透明度不够,也就是亚氧状态的氧化物,我们以前做ITO SnO2 ZnO都有这种情况,比如一般充10%氧气;
    2. 还有一种你可以观察靶材的跑道,如果还和本体一样的颜色,那基本没问题,如果跑道颜色已经比本体暗很多,说明靶材缺氧了。

    当然具体在照片上,膜上的小黑点是不是缺氧的AlOx,还得进一步确认

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