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风月千绪新虫 (正式写手)
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怎么降低DC磁控溅射做的钨薄膜电极的电阻？
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因实验需要用钨薄膜做电极，所以须将钨薄膜的粗糙度做的尽可能的小（要平整）、厚度要在100nm以下（不能太厚）、同时薄膜的电阻要尽可能的小。 目前，使用沈科仪的磁控溅射仪，通过调整功率、氩气量和溅射时间，常温下已把钨薄膜做到了0.2-0.5nm的粗糙度、厚度在90-100nm、电阻大概300Ω。 接下来还需继续降低电阻，但无论是试验低功率+高Ar气量，还是高功率+低Ar气量，都无法再使钨薄膜的电阻进一步降低，并且反而会增大粗糙度和电阻。 想请问各位大佬是否有相关的工艺经验？或对下一步的工艺调试有什建议？洗耳恭听、感激不尽！ 此外，做出的膜用XRD没能测到相应的峰，但别的组同样室温下用DCMS做的钨膜用相同仪器却能测出峰、并且粗糙度和电阻也都小。 发自小木虫Android客户端 |
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